ALLRESIST GmbH

Allresist

ALLRESIST GmbH
Am Biotop 14
15344 Strausberg

Telefon: (+49) 03341 / 35 93 – 0
Fax: (+49) 03341 / 35 93 – 29

Email: info@allresist.de
Website: www.allresist.de




Als traditionelles Unternehmen bietet Allresist sowohl Resists für Standardtechnologien als auch innovative Neuentwicklungen für zukunftsweisende Technologien, wie z.B. der Mikrosystemtechnik und Nanotechnologie, an. Unsere besondere Stärke ist die Fertigung prozessangepasster Resists nach Ihren Wünschen.

Allresist liefert große und kleine Mengen in kurzer Zeit. Sehr beliebt bei unseren Kunden sind die von uns angebotenen Kleinpackungsgrößen ab 250 ml und unsere 30 ml Testmuster zu kleinen Preisen.

Durch unsere produkt- und technologiebegleitende Betreuung erzielen unsere Kunden schnell qualitativ hochwertige Ergebnisse. Wenn Sie den passenden Resist für Ihre Anwendungen suchen, beraten wir Sie gerne, auf Wunsch auch vor Ort.



Besondere Produkte aus unserer Entwicklung

CAR 44

CAR 44 (AR-N 4400)

Wiederentfernbare dicke Negativresists für Mikro-

system- und LIGA-Technik

mehr…

AR-N 7520

AR-N 7520

Ätz- und prozessstabiler Photo- und E-Beam Resist für 10 nm Strukturen

mehr…

SX AR-PC 5000/30

AR-PC 503

KOH-resistenter Schutzlack zur Erzeugung abgesenkter

Strukturen in Silizium.

mehr…



Allresist versteht sich als Schnittstelle zwischen Industrie und Forschung …

Aus der Ambivalenz von Routinelieferungen für unsere großen Kunden und der Erfüllung von Sonderwünschen für Forschungseinrichtungen resultiert eine tief greifende Kompetenz zum Nutzen Aller.
Darüber hinaus bearbeiten wir seit Firmengründung langfristige Forschungsprojekte mit unseren Kooperationspartnern. Mittlerweile haben wir 12 Projekte erfolgreich abgeschlossen, die zu neuen Produkten führten.
Außerdem bearbeiten wir viele kleine FuE-Projekte auf speziellen Kundenwunsch hin. Daraus resultieren maßgeschneiderte Resists sowie Sonderanfertigungen und Experimentalmuster.

Produktübersicht

Hier erhalten Sie nachfolgend eine Übersicht über

  • Photoresists
  • E-Beam Resists
  • Prozesschemikalien
  • Sonderanfertigungen/Experimentalmuster

Die detaillierte Resistübersicht finden Sie zusammen mit Kurzinformationen im unterstehenden Flyer im PDF-Format.

Photoresists
Anwendung/Eigenschaften Produkt
Sprühresist, positiv AR-P 1250
Maskenherstellung/Feinteilung, positiv AR-P 3100
Dicklack bis 100 µm, positiv AR-P 3200
ICs, große Prozessbreite < 2 µm, pos. AR-P 3500
VLSICs, hohe Auflösung, sub-µm, pos. AR-P 3700, 3800
Protective Coating, KOH-resistent AR-PC 503, 504
Lift-off-Resist, positiv AR-P 5300
Zwei-Lagen-lift-off-System, positiv AR-P 5400
Image Reversal Resist (pos./neg.) AR-U 4000
Negativresist, stabile sub-µm-Strukt. AR-N 4240
Negativresist, g-line, hochempfindlich AR-N 4340
LIGA-Resist bis 100 µm, i-line, negativ
dto., zusätzlich für lift-off (CAR 44)
AR-N 4400
AR-N 4450
Photoresist zur Sprühbeschichtung X AR-P 1270
Dicker Photoresist für HF-Ätzung X AR-P 3100/10
Temp.-/ätzstabiler dicker Photoresist X AR-P 3220/7
Plasmaätzstabiler Tief-UV-Resist X AR-P 5800/7
Positivresist, alkalistabil bis pH 14 X AR-P 5900/4

E-Beam Resists
Anwendung/Eigenschaften Produkt
Copolymer PMMA/MA 33%, positiv AR-P 617
PMMA (verschied. Lösemittel)
50K, 200K, 600K, 950K, positiv
AR-P 631-679
Ätzresistent, mix&match, i-/g-line, pos. AR-P 7400
LIGA-PMMA-Resist bis 250 µm, positiv AR-P 6510
Ätzresistent, hochauflösend, negativ
dto., zusätzlich für mix&match, i-line
AR-N 7500
AR-N 7520
Chem. verstärkt,  steile Grad., negativ
Chem. verstärkt, flache Grad., negativ
AR-N 7700
AR-N 7720
Hochempfindl. CA-E-Beam Resist, neg. X AR-N 7700/30

Prozesschemikalien für Photo-/E-Beam Resists
Anwendung/Eigenschaften Produkt
Verdünner E-Beam Resists AR 600-01 … -09
Verdünner Photo/E-Beam R. AR 300-12
Entwickler Photo/E-Beam R AR 300-26, -35
Entwickler Photo/E-Beam R. AR 300-44 … -47
Entwickler E-Beam Resists AR 600-50 … -56
Stopper E-Beam Resists AR 600-60
Remover Photo/E-Beam R. AR 600-70, 300-70 … -73
Haftvermittler Photo/E-Beam AR 300-80, HMDS

Sonderanfertigung/Experimentalmuster
Anwendung/Eigenschaften Produkt
Photoresist für Holographie
(488 nm), positiv
SX AR-P 3500/6
Photoresist, hoher Kontrast,
sub-µm, positiv
SX AR-P 3740/4
Photoresist, plasmaätzbest.,
sub-µm, positiv
SX AR-P 3750/1
Image Reversal Resist
für hohe Schichten
SX AR-U 4000/8
PMMA-Photoresist,
mittl. UV, negativ
SX AR-N 4800/16
Protective Coating zum
Sprühen, oberflächengeglättet
SX AR-PC 5000/22
Protective Coating,
40% KOH- und 50% HF-resistent
SX AR-PC 5000/40
Polyimidresist,
Schutzlack zur 2-Lagenstrukt.
SX AR-PC 5000/80
Polyimidphotoresist,
strukturierbar, thermostabil
SX AR-P 5000/82
Leitfähiger Schutzlack
für PMMA-E-Beamresists
SX AR-PC 5000/90
Postiv-lift-off-Resist
für PMMA-Substrate
SX AR-P 5300/4
Top-Surface-Imaging-
Negativ-Photoresist
SX AR-N 7100/2
Top-Surface-Imaging-
Positiv-E-Beam-Resist
SX AR-P 7300/8
CA-Negativ-E-Beam Resist für
Maskenblanks, hochempfindlich
SX AR-N 7700/30, -37








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